林德集团旗下的林德电子3月15日宣布，将在东京电子（TEL）株式会社的日本韮崎市研发中心制造厂安装一套现场氟发生器，以支持东京电子的制造流程和业务运营。 

        林德表示，由于担心三氟化氮(NF3)可能会造成全球变暖，加之有可能立法限制NF3使用，越来越多的客户开始采用现场制氟。相较于NF3，现场制氟是一种生产效率更高、更节能的选择，有助于保持生产薄膜场效应晶体管液晶显示器（TFT-LCD）和太阳能光伏（PV）的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）室的清洁。

        据了解，近来林德为多家大型半导体生产基地安装现场制氟设备。2010年林德客户通过使用现场制氟设备，减少二氧化碳排放量逾25万吨。林德现场氟发生器已通过第三方安全评估，在世界各地运行数量超过30套，满足了半导体、显示和光伏行业的腔室清洁需求。